三
等離子體弧清洗技術(shù)的基本原理是利用等離子體溫度高、能量密度大及氣氛可控等特點(diǎn),從等離子發(fā)生器中產(chǎn)生的自由電弧經(jīng)過(guò)機(jī)械壓縮、熱壓縮、自磁壓縮作用,使自由電弧變成不同直徑的等離子體弧柱,照射物品需要清洗的部位,使被照射的物質(zhì)發(fā)生振動(dòng)、熔化、蒸發(fā)、燃燒等一系列復(fù)雜的物理化學(xué)過(guò)程,最終脫離物品表面,從而實(shí)現(xiàn)對(duì)表面污染物的清除。...
2022-05-23
氫氣等離子體清洗過(guò)程中起作用的除了氫原子,氫離子和電子外,還有處于激發(fā)狀態(tài)的電中性的氫原子或原子團(tuán)(又稱(chēng)自由基),以及氫等離子體發(fā)射出的光線(xiàn)。因此易于與材料表面的物質(zhì)反應(yīng)形成新的物質(zhì),如水、碳?xì)浠衔锏?..
2022-05-20
等離子清洗在清洗過(guò)程中通過(guò)射頻電源電離真空腔內(nèi)氣體產(chǎn)生等離子體，等離子體具有高能量可以通過(guò)物理作用轟擊金屬表面使金屬表面的污染物從金屬表面脫落，其次電離某種氣體可以產(chǎn)生對(duì)應(yīng)的活性粒子，活性粒子會(huì)與表面的有機(jī)物或者氧化物等發(fā)生化學(xué)反應(yīng)進(jìn)而生成易于揮發(fā)的物質(zhì)可以被真空泵排出反應(yīng)腔體達(dá)到清洗物體表面的效果。...
2022-05-20
等離子體活化水（Plasmaactivatedwater，PAW），又稱(chēng)為等離子體酸、等離子體活化液體，是指水被低溫等離子體處理后，水分子離解的產(chǎn)物與等離子體中的活性物質(zhì)反應(yīng)產(chǎn)生富含更多種類(lèi)活性成分的水溶液。...
2022-05-19
plasma等離子清洗機(jī)通過(guò)設(shè)備產(chǎn)生的離子元素與被清潔工件上的污染物進(jìn)行反應(yīng)，Plasma等離子清洗機(jī)除了具有清洗作用外，它還可以對(duì)特定材料的表面性能進(jìn)行改善，如材料粘附性、浸潤(rùn)性和相容性等。...
2022-05-19
Plasma等離子清洗在Flip-ChipBond工藝中起的重要作用，通過(guò)對(duì)基板進(jìn)行plasma等離子清洗能夠有效的清除基板因前端工藝而殘留的雜質(zhì)，從而在Flip-ChipBond工藝中使芯片的Bump與基板上的Pad更能夠有效的鍵合，提高其鍵合的可靠性。...
2022-05-18
Plasma等離子清洗機(jī)基本工作原理是在真空的狀態(tài)下，設(shè)備腔體內(nèi)的電極形成很高頻率的交變電場(chǎng)，腔體內(nèi)的氧氣或氬氣在交變電場(chǎng)的作用下形成等離子體，腔體內(nèi)被清洗的物體在活性等離子的化學(xué)反應(yīng)和反復(fù)物理轟擊的雙重作用下，使其表面揮發(fā)物殘留、雜質(zhì)、灰塵、氧化物等變成離子或氣態(tài)物質(zhì)，這些離子或氣體在真空的抽離下排出腔體，剝離出被清洗的物體表面，從而達(dá)到清洗的目的。...
2022-05-18
經(jīng)常有客戶(hù)在使用等離子清洗機(jī)對(duì)產(chǎn)品進(jìn)行產(chǎn)品處理時(shí)會(huì)出現(xiàn)產(chǎn)品變色的情況出現(xiàn)，尤其是在半導(dǎo)體封裝鍵合元器件上出現(xiàn)的頻率很大。今天就讓我們來(lái)分析一下是什么原因?qū)е铝说入x子清洗后產(chǎn)品變色。...
2022-05-18
違反操作規(guī)程可能導(dǎo)致人身傷害、設(shè)備損壞和財(cái)產(chǎn)損失。等離子清洗機(jī)在操作時(shí)也應(yīng)該遵循相應(yīng)的操作規(guī)程，才能取得好的清洗效果，避免設(shè)備受到損傷。...
2022-05-17
就目前眾多的韓國(guó)等離子清洗機(jī)品牌中,較為熟知且有代表性的應(yīng)該要數(shù)APP、 Vision、PSM、Femto這幾個(gè)品牌。下面一起來(lái)了解下。...
2022-05-17
等離子體清洗利用等離子體中的高能粒子和活性粒子，通過(guò)轟擊或活化反應(yīng)作用將表面污物去除的過(guò)程。等離子體清洗的過(guò)程不使用化學(xué)試劑，所以不會(huì)造成二次污染。...
2022-05-13
近些年來(lái)，等離子體清洗受到廣泛的關(guān)注，各種不同等離子體源應(yīng)用于等離子體清洗中，包括直流等離子體清洗源，射頻等離子體清洗源，約束等離子體清洗源，輝光等離子體清洗源，介質(zhì)阻擋等離子體清洗源、電暈等離子體清洗源和等離子體射流清洗源。...
2022-05-13
廣東省深圳市光明區(qū)華明城高新產(chǎn)業(yè)園A棟5樓 
133-8039-4543